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EDI纯水机怎么清洗

发表时间:2022-08-24  |  点击率:108
  一、高流速,低压力和清洗频率
 
  (1)清洗的流速
 
  装置运行时,附着性高的粒子状污染物逐渐堆积在膜表面。如果清洗时的流速与运行时的流速相等或更低,则很难把这些污染物从膜元件中清洗出来。
 
  (2)清洗压力
 
  正常高压运转时,压力直接垂直作用膜面,使进水透过膜面得到产水,同时污染物也被压向膜面。所以在清洗时,如果采用同样的高压,则污染物被积压在膜表面,清洗的效果就会降低。清洗时尽可能的通过低压,高流速的方式,增加水平方向的剪断力把污染物冲岀膜元件。
 
  (3)清洗频率条件允许的情况下,建议经常对系统进行清洗。增加清洗的次数比延长1次清洗的时间更为有效般清洗的频率。
 
  (3)化学清洗:主要是通过化学药剂对滤膜进行清洗,所以要选择适宜的化学药剂。
 
  二、因素:
 
  (1)首先要与设备制造商、R0膜元件厂商R0特用化学药剂及服务人员取得联系。确定主要的污染物,选择合适的化学淸洗药剂。
 
  (2)有时针对某种特殊的污染物或污染状况,要使用RO药剂制造商的专用化学淸洗药剂,并且在应用时,要遵循药剂供应商提供的产品性能及使用说明。
 
  (3)特殊情况下可针对具体情况,从反渗透装置取岀已发生污染的单支膜元件进行测试和清洗试验,以确定合适的化学药剂和清洗方案。
 
  三、EDI模块清洗操作步骤:
 
  1.浓水室结垢清洗;
 
  2.记录清洗前所有数据;
 
  3.分离EDI膜块与其他设备的连接管路;
 
  4.连接清洗装置(见清洗流程图),使清洗泵通过浓水管路进入EDI膜块再回到清洗水箱,浓水进、出水阀开启,关闭EDI淡水进水阀和产水阀;
 
  5.在清洗水箱配置2%浓度的盐酸清洗液;
 
  6.启动清洗泵,调节浓水进水阀,以规定的流量循环清洗(酸洗步骤)。(参见附表)停止清洗泵,排空清洗水箱清洗废液,分离浓水排水阀至地沟;
 
  7.向清洗水箱连续注入清水(RO产水),启动清洗泵连续清洗(冲洗步骤);
 
  8.打开EDI进水阀和产水阀,同时对两个水室进行冲洗;
 
  9.检测浓水出水侧的水质,直至与进水侧电导率相近;
 
  10.各个阀门,恢复原始各设计流量数据;
 
  11.恢复EDI各个管路与其他系统的连接;
 
  12.开启PLC控制柜电源,向EDI膜块送电,转入正常运行,并作好初次运行的数据记录。